学霸的军工科研系统 第1444节（2 / 7）
“1.80的数值孔径，相当于我们把193nm duv光源的等效波长压缩到了107.22nm，对比na值1.35的老体系，相当于把特征尺寸的理论极限从40nm一举推进到27nm左右！”
栾文杰的视线表格上飞速移动，最终找到了27nm对应的节点尺寸——
三星的5nm，或tsmc的7nm++，或英特尔的10nm。
总之，已经是目前最强的一档。
是过去一般认为，只有euv光刻机才能够涉足的领域。
看到对方的视线已经不再移动，常浩南终于给出了阶段性的结论：
“这个能力，足以覆盖当前tsmc、三星等厂商定义的7nm，乃至未来3-5年内可能出现的更先进节点的全部生产需求！而且，都是依靠单次曝光工艺就能稳定实现的。”
“更重要的是，arf-1800光刻机的主体架构，除了这个革命性的物镜组以外，其余光源系统、精密工件台、掩模台以及对准器等核心子系统，都沿用了arf-1500平台上的成熟设计，最大程度地保证了设备的可靠性用户的转产速度。”
说到这里他稍作停顿，让栾文杰有些缓冲的时间。
之后，又掷地有声地强调：
“这意味着，一旦设备交付，华芯国际能够在最短时间内完成产线切换和产能爬坡，无需漫长的调试和适应期，供应链的每一个环节，从材料、设计到制造，都牢牢掌握在我们自己手中，稳定、安全、可控！”
第1622章 现在和未来，都是我们的
或许是为了给这番论述一个直观的注脚，张汝宁走到测试平台旁，小心翼翼地从特制载物架上取下一片晶圆，交到栾文杰手中。
经过特殊处理的硅片表面光滑如镜，肉眼看去并无特殊之处。
但旁边的显示屏随之亮起，清晰地呈现出一个由无数细微线条构成的、边缘锐利无比的字母。
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栾文杰的视线表格上飞速移动，最终找到了27nm对应的节点尺寸——
三星的5nm，或tsmc的7nm++，或英特尔的10nm。
总之，已经是目前最强的一档。
是过去一般认为，只有euv光刻机才能够涉足的领域。
看到对方的视线已经不再移动，常浩南终于给出了阶段性的结论：
“这个能力，足以覆盖当前tsmc、三星等厂商定义的7nm，乃至未来3-5年内可能出现的更先进节点的全部生产需求！而且，都是依靠单次曝光工艺就能稳定实现的。”
“更重要的是，arf-1800光刻机的主体架构，除了这个革命性的物镜组以外，其余光源系统、精密工件台、掩模台以及对准器等核心子系统，都沿用了arf-1500平台上的成熟设计，最大程度地保证了设备的可靠性用户的转产速度。”
说到这里他稍作停顿，让栾文杰有些缓冲的时间。
之后，又掷地有声地强调：
“这意味着，一旦设备交付，华芯国际能够在最短时间内完成产线切换和产能爬坡，无需漫长的调试和适应期，供应链的每一个环节，从材料、设计到制造，都牢牢掌握在我们自己手中，稳定、安全、可控！”
第1622章 现在和未来，都是我们的
或许是为了给这番论述一个直观的注脚，张汝宁走到测试平台旁，小心翼翼地从特制载物架上取下一片晶圆，交到栾文杰手中。
经过特殊处理的硅片表面光滑如镜，肉眼看去并无特殊之处。
但旁边的显示屏随之亮起，清晰地呈现出一个由无数细微线条构成的、边缘锐利无比的字母。
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